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Struktur und Herstellung von TFT-Flüssigkristallen
Jun 14, 2018

Schlüsseltechnologie bei der Herstellung von p-Si TFT


  1 ltps tft lcds technisches niveau

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2. Dotierung und Verunreinigungsaktivierung bei der Herstellung von p-Si-TFT

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Verglichen mit der VLSI-Dotierungstechnologie sind die Eigenschaften der p-Si-Dotierung:

    

(a) Die geringe Wärmeleitfähigkeit des Substrats erfordert einen "milden" Dotierungsprozess, um die thermische Schädigung des Photoresists zu mildern.

(b) die Injektionsenergie ist für die Dotierung des Films (<100 nm)="" geeignet,="" wenn="" eine="" maskierungsschicht="" (oder="" maskierungsschicht)="" vorhanden="">

(c) die Ausrüstung ist einfach (geringe Kosten) und kann für eine großflächige Basis eine hohe Ausbeute erzielen.

(d) der Dotierungsprozess ist mit dem Aktivierungsprozess für Verunreinigungen bei niedriger Temperatur (normalerweise weniger als 650 ° C, für Kunststoffsubstrat <200 °="" c)="">


Defekte des TFT-Arrays

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Häufige Fehler im TFT-Array-Prozess

Schlechte TFT-Eigenschaften

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Bei der Endprüfung des TFT-Arrays sind die Punktdefekte: ITO-Self-Datenleitungskurzschluss, ITO-Sub-Datenleitungskurzschluss, ITO-CS-Kurzschluss, Überladung, ITO-Netzkurzschluss, IOFF, Low Vg und andere Mängel.

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Elektrostatischer Zusammenbruch

Elektrostatischer Durchschlag bezieht sich auf den Durchbruch von Isolierschicht und Halbleiterschicht aufgrund statischer Elektrizität. Die Gitterschicht ist direkt mit der Signalschicht verbunden und es tritt ein Kurzschluss auf. Es ist einfacher, auf dem Kurzschlussring oder der Kante des Substrats aufzutreten.

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  Der Prozess der Flüssigkristallzelle

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Flüssigkristallzellenprozess (1)

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