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SLS-Poly-Si-TFT-Merkmal
Jun 20, 2018

                                              SLS-Poly-Si-TFT-Merkmal


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                                             Zusammenfassung

1.SSL hatte festgestellt, dass größere seitliche Wachstum
Prozessfenster als ELA
2. Prozessfenster ist stark abhängig
die Film-Aufnahme und Abkühlgeschwindigkeit, Wärme
Beibehaltung der Schicht sollte weiter ausgebaut werden.


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Ein paar: LTPS-TFT-Prozess: Kristallisation

Der nächste streifen: LCD-Anzeigeprinzip